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超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
product
產(chǎn)品分類超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上，樣品表面會產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過程很快（ps量級）因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。在本儀器中，當每一次激光打在樣品后，便可通過延遲線調(diào)節(jié)兩個光脈沖之間的延遲，從而分別采集激光打在樣品后不同時刻樣品損毀情況。
超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要技術(shù)指標：
檢測模式 | 超快光損傷/等離子濺射 |
時間窗口范圍 | 8 ns |
探測器類型 | ICCD，門控時間3 ns |
探測時間分辨率 | 1.5倍激光脈寬 |
激發(fā)光聚焦鏡頭 | 20X/50X 可選 |
樣品移動方式 | 全自動樣品二維電控移動平臺 |
軟件功能 | 數(shù)據(jù)采集/分析軟件 |
本功能主要利用相機的門采集功能以及延遲來采集不同時刻，樣品等離子體濺射過程。整個測試流程是激光聚焦打在樣品上，樣品會產(chǎn)生等離子體此時相機的曝光時間固定，曝光時間就相當于一個“門"，再通過時序來調(diào)節(jié)“門"相對于激光打在樣品上的時間為0來進行延遲，從而分別拍出不同時間等離子體的濺射過程。
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